登录
机构网站
切换导航
首页
到馆服务
学科服务
研究支持
情报产品
数据资源
科学传播
关于我们
首页
馆藏纸本
图书详情
Kodak photoresist seminar proceedings-1968.
出版社:
New York : Eastman Kodak Cmpany, 1968.
出版年:
1968
资源类型:
图书
细分类型:
西文文献
1浏览量
问图书管理员
馆际互借
点赞
收藏
访问借阅管理系统
分享
相关推荐
Kodak photoresist seminar
作者:
J H Altman
出版社:
1969.01
Proceedings Kodak Photoresist Seminar May 19 & 20, 1969.
作者:
Eastman Kodak Company.
出版社:
Rochester, N.Y., c1969.
出版年:
1969
Porceedings : Kodak Photoresist Seminar, May 19-20, 1969
作者:
Kodak Eastmen Co. Professional,Commercial,and Industrial Markets Division
Proceedings of the INTERFACE'' 73 : the Kodak Microelectronics Seminar, Oct. 29-30, 1973, Atlanta, Ge
作者:
Eastmen Kodak Company
Electrical contacts-1968 : proceedings of the Engineering Seminar on Electrical Contact Phenomena, N
作者:
Illinois Institute of Technology.
出版社:
Chicago : Illinois Institute of Technology, 1968.
出版年:
1968
Modulation transfer function : Seminar proceedings Mar. 21-22, 1968, Boston, Mass.
作者:
Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers.
出版社:
Redondo Beach, Calif. : SPIE, 1968.
出版年:
1968
×
访问借阅管理系统