28nm HKMG器件中DPRM工艺的研究

出版社:中国科学院大学微电子学院
出版年:2019
作者:石梦
资源类型:图书
细分类型:中文文献
相关推荐

金属栅工艺及其对28nm HKMG NMOS器件电性能影响的研究

  • 作者:刘城
  • 出版社:中国科学院大学微电子学院
  • 出版年:2019

28nm源漏碳掺杂与抗反射涂层工艺对器件良率的影响

  • 作者:吉忠浩
  • 出版社:中国科学院大学微电子学院
  • 出版年:2019

提升28nm NMOS器件性能的应力记忆技术研究

  • 作者:卢小雨
  • 出版社:中国科学院大学微电子学院
  • 出版年:2019

基于28nm CMOs工艺的32Gb/s单端信号高速串行链路接收机设计

  • 作者:刘朝阳
  • 出版社:中国科学院大学集成电路学院
  • 出版年:2022

面向28nm及以下技术代的Ni基硅化物研究

  • 作者:盛捷
  • 出版社:中国科学院大学微电子学院
  • 出版年:2019

NBTI对28nm PMOS可靠性研究及改进

  • 作者:赵永敏
  • 出版社:中国科学院大学微电子学院
  • 出版年:2019