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Advances in resist technology and processing XVII : 28 Feb.-1 Mar. 2000 Santa Clara USA
出版社：Bellingham, Wash. : SPIE, c2000.
ISBN：0819436178
出版年：2000
作者：Houlihan,Francis M.,
资源类型：图书
细分类型：西文文献
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  • 出版社：Bellingham, c1987
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Advances in resist technology and processing XVIII : 26-28 February 2001, Santa Clara, USA
  • 作者：Houlihan,Francis M.
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  • 出版社：Bellingham, Washington : SPIE, c2001.
  • 出版年：2001
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Nonlinear image processing II : 28 Feb.-1 Mar. 1991, San Jose, Calif.
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  • 出版年：1991