22nm及以下CMOS技术代的硅化物研究

22nm及以下CMOS技术代的硅化物研究

出版年：2013

作者：邓坚

资源类型：图书

细分类型：学位论文

1浏览量

问图书管理员

点赞

收藏

访问借阅管理系统

面向22nm及以下技术代CMOS器件SiGe源漏选择性外延技术研究

作者：王桂磊
出版年：2016

22nm及以下技术节点CMOS器件先导刻蚀及其关键技术研究

作者：孟令款
出版年：2017

针对22nm技术节点以下SOI-FinFET器件的工艺与特性研究

作者：张琴
出版年：2014

面向22nm及其以下技术代接触孔模块的工艺集成

作者：赵利川
出版年：2014

面向28nm及以下技术代的Ni基硅化物研究

作者：盛捷
出版社：中国科学院大学微电子学院
出版年：2019

面向22纳米及以下技术代COMS器件的Ｎ型金属栅的原子层沉积技术研究

作者：项金娟
出版年：2016