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Photomask and next-generation lithography mask technology X : 16-18 April 2003 Yokohama Japan
出版社：Bellingham, Wash. : SPIE, c2003.
ISBN：0819449962
出版年：2003
作者：Tanabe,Hiroyoshi.
资源类型：图书
细分类型：西文文献
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  • 出版社：Bellingham, Wash. : SPIE, c2013.
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  • 作者：Tanabe,Hiroyoshi.
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  • 出版社：Bellingham, Wash. : SPIE--the International Society for Optical Engineering, c2004.
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  • 出版年：2006
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  • 作者：Kato,Kokoro.
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  • 出版社：Bellingham, Wash. : SPIE, c2014.
  • 出版年：2014
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  • 出版社：Bellingham, Wash. : SPIE--the International Society for Optical Engineering, c2007.
  • 出版年：2007