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Ultrathin SiO2 and high-K materials for USLI gate dielectrics : Symposium held April 5-8 1999 in S
出版社：
Warrendale, Pa. : Materials Research Society, 1999.
ISBN：
1558994742
出版年：
1999
作者：
Huff,Howard R.,
资源类型：
图书
细分类型：
西文文献
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