ICP刻蚀机腔室设计优化研究

出版社:中国科学院大学人工智能学院
出版年:2018
作者:雷唤晨
资源类型:图书
细分类型:中文文献
相关推荐

ICP刻蚀HgCdTe相关技术研究

  • 作者:郭靖
  • 出版年:2006

PECVD和ICP刻蚀技术及应用

  • 作者:李艳
  • 出版年:2009

300mm ICP硅栅刻蚀机关键技术和工艺的研究

  • 作者:张庆钊
  • 出版年:2008

KZ-400离子束刻蚀装置的优化设计

  • 作者:高飞
  • 出版年:2005

深刻蚀石英光栅的设计与制作

  • 作者:冯吉军
  • 出版年:2010