基于键合工艺的Si/SiC界面特性研究

出版社:中国科学院大学集成电路学院
出版年:2022
作者:王风旋
资源类型:图书
细分类型:中文文献
相关推荐

基于键合技术的Si-on-SiC材料制备与表征研究

  • 作者:高定成
  • 出版社:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 出版年:2024

阳极键合工艺与设备的研究

  • 作者:吴登峰
  • 出版年:2003

面向III-V/Si多结太阳能电池的关键工艺研究

  • 作者:赵永强
  • 出版社:中国科学院半导体研究所
  • 出版年:2022

Si及SiC的表面钝化研究

  • 作者:蔡文闻
  • 出版年:1998

β—SiC表面及金属Ni/β—SiC界面研究

  • 作者:江潮
  • 出版年:1989

SiC MOS器件栅氧界面特性及可靠性失效机理研究

  • 作者:万彩萍
  • 出版社:中国科学院微电子研究所
  • 出版年:2023