硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究

硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究

出版社：江苏大学出版社

ISBN：9787568410304

出版年：2018

作者：杜文汉

学科：物理学

资源类型：图书

细分类型：中文文献

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