意法半导体公司(ST Microelectronics)的科研人员在2019 IEEE 21ST ELECTRONICS PACKAGING TECHNOLOGY CONFERENCE (EPTC)发表论文“Enabling Wettable Flank Technology: Insights, Challenges and Perspectives”。
高可靠性应用中视觉可检测焊点的市场驱动力要求实施强健的Wettable Flank技术,其中,封装分离后暴露在封装边缘的铜终端可通过电镀暴露的铜来实现可焊性,以防止氧化并促进一致的可焊性。在此,我们介绍了在OFN平台上实现Wettable Flank技术所探索的各种技术。研究了浸锡工艺、超短脉冲激光烧蚀技术和激光引导表面响应式选择系统。介绍了与每种技术相关的产品创新和工艺开发活动,并确定了对其可制造性和可靠性的技术见解。更重要的是,报告了所遇到的挑战及其解决方案,为未来的产品开发提供了重要的经验教训。此外,评估结果强调了这些技术在实现OFN封装所需几何结构方面的潜力,并通过扩展实现封装边缘上视觉可检测的焊角的可能性。